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90nm/65nm Fertigungsprozess


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Das hat nichts mit der Größe der Wafer zu tun sondern mit der Größe der Strukturen. Kleinere Strukturen bedeuten bei gleicher Transistoranzahl kleinere Kerne, so dass auf einen Wafer mehr Kerne passen.

Außerdem sollten kleinere Strukturen auch weniger Strom benötigen, das Problem ist jedoch dass bei kleineren Strukturen die Leckströme (also die Ströme die nicht durch die dafür vorgesehenen Bahnen fließen) auch größer werden, was bei der Einführung des 90-nm-Fertigungsprozesses bei Intel das Problem war.

Die Wafergröße ist nur relevant wenn man wissen will wie viele Kerne auf einen Wafer passen. Ältere Fabriken nutzen Wafer mit 200 mm Durchmesser, aktuelle Fabriken nutzen 300-mm-Wafer. Wenn sich das zuerst nicht nach großem Unterschied anhört ist es doch interessant zu sehen dass ein 300-mm-Wafer eine mehr als doppelt so große Fläche hat (ca. 0,7 m² gegenüber ca. 0,31 m²) und somit mehr als doppelt so viele Kerne enthalten kann.

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na is doch ganz einfach :)

wenn du tassen auf einen tisch stellst und immer schön 5cm platz zu jeder seite lässt hast du ein raster. wenn du jetzt aber mal einfach nur 3,5cm platz zu jeder seite lässt bekommst du auf die gleiche fläche eine größere zahl von tassen :)

mal ein bildliches beispiel *g

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